Page 47 - НАЦІОНАЛЬНА АКАДЕМІЯ НАУК УКРАЇНИ

47

Geng зі співавторами [128] зазначив, що напилювані HVOF покриття

системи WC-Co не повинні використовуватися як стійкі до зношування за

кімнатної або підвищеної температур в середовищах збіднених киснем.

У роботі [129] досліджували вплив параметрів на мікроструктуру та

поведінку під час ковзання наноструктурованих покриттів WC-CoCr та

визначали оптимальний режим їх напилення. У роботах [129–132] було оцінено

взаємозв'язок між наномеханічними властивостями та стійкістю до ковзання

покриттів, одержаних розпиленням звичайних і наноструктурованих порошків

WC-CoCr за підвищеної температури.

У роботі [133] досліджували традиційний і наноструктурований порошок

WC-CoCr з номінальним складом 4 мас.% Cr, 10 мас.% Co, 5,3 мас.% C, 80,7

мас.% W, та розміром часточок 15…45 мкм і 5…45 мкм відповідно.

Наноструктурований порошок був агломерований часточками 100…500 нм. Ці

порошки були нанесені на сталеву підкладку AISI 1045 високошвидкісним

газополуменевим напиленням. Результати засвідчили, що наноструктуровані

покриття володіють дещо нижчою твердістю (Н), модулем пружності (Е), проте

3
2
вищими значеннями Н/Е і Н /Е , ніж традиційне покриття. Як наслідок зносо-
стійкість наноструктурованого покриття в 1,2 рази вища, ніж у звичайного по-

криття за температури 350°С. Знос звичайного покриття відбувається внаслідок
видалення часточок карбіду внаслідок поширення тріщини та втомного

розшарування, в той час як екструзія зв’язуючого була переважаючим
механізмом зношування ковзанням для наноструктурованого покриття на

повітрі за 350°C [134–137].

В роботі Ю.С. Борисова [138] показано, що мікроструктура покриттів

WC-9Сo-9Сr, отриманих високошвидкісними методами газотермічного

напилення, зокрема детонаційним, надзвуковим, повітряно-газовим, плазмовим

і високошвидкісним газополуменевим (HVOF) являють собою часточки WC,

рівномірно розподілені в Co-Cr матриці. Пористість покриттів ~ до 5%, а їх

мікротвердість ~ 11,0…11,7 ГПа. На відміну від попередніх методів в структурі

покриття, отриманого детонаційним напиленням, наявні оксидні прошарки