Page 99 - Microsoft Word - Дисертація.docx
P. 99
99
Рис. 2.20. Фрагмент поля нормалей
На основі досліджень можна зауважити залежність між розмірами
масок обробки та результатами виділення об’єктів аналізу. Для
задовільної сегментації об’єктів розмір маски згладжування повинен
вдвічі перевищувати лінійні розміри об’єктів, а розмір маски для
аналізу нормалей бути сумірним з ними.
Для двох синтезованих зображень рис. 2.21а та рис. 2.21б, які
являють собою однорідний фон з розміщеними на ньому випадковим
чинок точками меншої та більшої яскравості відповідно рис. 2.21в та
рис. 2.21г показано застосування запропонованого підходу.
Рис.2.21. Cинтезовані зображення впадин (а) та виступів (б) та
результати застосування запропонованого методу класифікації точок
поверхні (в),(г)
На рисунку 2.22 наведено застосування виразу (2.9) для
детектування границь зерен на зображенні мікроструктури матеріалу.
Для зображення поверхні зразка матеріалу (рис.2.22а) класифіковано
