Page 21 - НАЦІОНАЛЬНА АКАДЕМІЯ НАУК УКРАЇНИ
P. 21
21
ПЕРЕЛІК УМОВНИХ ПОЗНАЧЕНЬ
V n – продуктивність процесу;
ʋ SiC – швидкість часточок SiC, %;
Q Ar – витрати транспортувального газу (аргону), л/хв;
C SiC – об’ємний вміст часточок SiC в модифікованому шарі, %;
V SiC – витрата порошку, г/хв;
Е пог – погона енергія Дж/см;
l – товщина лазерно модифікованого шару, мм;
-1
ρ SiC – густина часточок SiC, мм ;
d SiC – розмір частинок SiC у модифікованому шарі;
.
µ – в’язкість, мПас;
Р к – руйнівне навантаження, кН;
γ к – критичний прогин,мм;
U – лінійний знос, мкм;
К п – коефіцієнт перекриття лазерних доріжок, %;
ω – відкрита поруватість, %;
HVOF – високошвидісне газополуменеве напилення;
DJH – Diamond Jet Hybrid gun;
PSCDV – плазмове напилення покриттів у динамічному вакуумі;
Н Меєром – мікротвердість, ГПа;
Е – модуль пружності ГПа;
ε – мікропластичність;
σ ІІ – напруження розтягу ІІ роду, ГПа