Page 21 - НАЦІОНАЛЬНА АКАДЕМІЯ НАУК УКРАЇНИ
P. 21

21

                                        ПЕРЕЛІК УМОВНИХ ПОЗНАЧЕНЬ



               V n – продуктивність процесу;

               ʋ SiC – швидкість часточок SiC, %;

               Q Ar – витрати транспортувального газу (аргону), л/хв;

               C SiC – об’ємний вміст часточок SiC в модифікованому шарі, %;

               V SiC – витрата порошку, г/хв;

               Е пог – погона енергія Дж/см;

               l – товщина лазерно модифікованого шару, мм;

                                                    -1
               ρ SiC – густина часточок SiC, мм ;
               d SiC – розмір частинок SiC у модифікованому шарі;

                                    .
               µ – в’язкість, мПас;
               Р к – руйнівне навантаження, кН;

               γ к – критичний прогин,мм;

               U – лінійний знос, мкм;

               К п – коефіцієнт перекриття лазерних доріжок, %;


               ω – відкрита поруватість, %;
               HVOF – високошвидісне газополуменеве напилення;


               DJH – Diamond Jet Hybrid gun;
               PSCDV – плазмове напилення покриттів у динамічному вакуумі;


               Н Меєром – мікротвердість, ГПа;
               Е – модуль пружності ГПа;


               ε – мікропластичність;

               σ ІІ – напруження розтягу ІІ роду, ГПа
   16   17   18   19   20   21   22   23   24   25   26