Page 177 - Korniy_dyser
P. 177

177

                         Хоча при цьому залишається не виясненим питання щодо поверхневого
                  збагачення поверхні інтерметаліду атомами міді (Cu-enrichment). Ці питання


                  стосуються  розподілу  міді  на  поверхні  та  його  можливість  розчинення  і
                  осадження  на  інших  структурних  фазах  дюралюмінію.  Очевидно,  такі


                  дослідження         поряд       із    квантово-хімічним           описом       потребують
                  експериментального вивчення методами мікроелектрохімії із використанням


                  сучасних методів поверхневого аналізу.

                         Отже,  стосовно  корозійного  розчинення  інтерметалідна  фаза  є

                  складною  електрохімічною  системою  з  катодними  та  анодними  зонами,

                  якими  можуть  служити  ділянки  із  різною  кристалографічною  орієнтацією

                  поверхні або створені внаслідок часткового електронного переносу локальні

                  адсорбційні центри алюміній–мідь.

                         Внесення  атомів  магнію  у  кластер  зумовлює  пониження  енергій

                  активацій атомів міді та алюмінію (рис. 3.18, 3.19), при цьому атоми магнію

                  володіють  найменшою  енергією  виходу  з  поверхні  [324].  Отже,

                  інтерметаліди  Al 2CuMg  на  початковій  стадії  корозії  можуть  розчинятися

                  швидше у водному розчині хлориду, ніж інтерметаліди Al 2Cu.


                        4                                           E D , еВ  3.5               -
                        3 E d  , еВ          (H O)CuCl -              3.0               (H O)CuCl -
                                                                                          2
                                                                                        (H O)AlCl
                                               2
                                                                                          2
                                                                      2.5               (H O)MgCl -
                                                      -                                   2
                                             (H O)AlCl
                        2                      2                      2.0
                                                                      1.5
                                                      -
                        1                   (H O)MgCl
                                              2
                                                                      1.0
                        0                                             0.5
                                                                      0.0
                                                          o
                         -2     0      2     4      6  d, A                кластер Al Cu        кластер Al CuMg
                                                                                    2
                                                                                                        2

                    Рисунок 3.18 – Потенціальні криві              Рисунок 3.19 – Порівняння енергій

                           віддалення комплексів                     активації виходу іонів металів із
                                     n+
                                                       n+
                      [H 2O(CuCl)] , [H 2O(AlCl)]  і                поверхні (110) кластерів Al 2Cu та
                                    n+
                     [H 2O(MgCl)] від поверхні (110)                               Al 2CuMg
                             кластера Al 2CuMg
   172   173   174   175   176   177   178   179   180   181   182